IBMのブレークスルーとは、結局のところナノスケールの世界を意味します

結局のところ、ナノスケールの3D世界です。 IBMの研究者は、科学者がナノスケールの物体を作成するための画期的な技術を生み出しました。最初の使命は、これまでに世界最小の3D地図を制作することでした。

ここではスイスのマッターホルンのレプリカを彫刻した加熱されたナノスケールシリコンチップの3Dイメージを見ていきます。 Matterhornの25ナノメートル高さの3Dレプリカは、分子ガラス上に作られました。

このマップは、基板から材料を切り落とすシリコンチップ(右)を備えた「ナノパターニング」を使用して作成されました。このナノスケールのチップは、アリの1万倍、長さが500ナノメートル、高さが数ナノメートルです。 IBMは、先端が20ナノメートルのような2Dと3Dのパターンと構造を作り出すことができると述べた。

ギャラリー:IBMの3Dナノスケールのブレークスルーにより、世界はより小さくなります

先端部は、原子間力顕微鏡で使用される種類に似ています。これは、基板材料の表面を制御可能に1ナノメートル(100万分の1ミリメートル)の精度で走査する、曲げ可能なカンチレバーに取り付けられる。熱と力を加えることで、ナノサイズのチップはパターンを刻むことができます。

この発見を概説した論文は、Science and Advanced Materials誌に掲載されています。この論文では、サンノゼとチューリッヒに拠点を置くIBMの研究チームは、22マイクロメータで完全な3Dマップを作成する方法を説明しています。それはどれくらい小さいのですか?塩の穀物で1000の世界地図を考えてみましょう。 3Dマップは500,000ナノスケールのピクセルで構成され、作成に2分23分かかりました。

3D地図を見てみましょう

この画期的な意味は何ですか? IBMのツールは、健康上の問題を修復できる小さなマシンを作成するために使用できるという。さらに、IBMの画期的な進歩は、エレクトロニクス製造から半導体、医学、ライフサイエンス、オプトエレクトロニクスまであらゆるものに影響する可能性があります。当然のことながら、ナノパターン化は、IBMの将来のチップおよびシステム事業、および水の浄化および医療診断のアプリケーションに役立ちます。

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IBMの広報担当者は、IBMがこの技術を他の企業や大学にライセンス供与するよう交渉中だと語った。

Scienceの記事のスニペットは、

有機レジストをパターニングするために、光学および電子ビームリソグラフィ(EBL)が最も確立された方法であるが、30ナノメートル未満の解像度では、周辺領域におけるレジストの望ましくない暴露によって固有の問題が存在する。本発明者らは、加熱可能プローブによるガラス状有機レジストの局所的脱着に基づく走査プローブリソグラフィ方法を提示する。同様の分解能で近接補正およびスループットがガウスEBLのものに近づくことなく、15ナノメートルまでの半ピッチでパターニングを実証する。パターンは、他の基板に転写することができ、複雑な三次元構造を製造するために、材料を連続的な工程で除去することができる。

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